Ayer les informamos que China ha dado un paso más hacia la independencia de Occidente. empresa estatal Grupo de tecnología electrónica Aishengna de Shanghai ella presentó propio sistema de litografía DUVdestinado a la producción de circuitos integrados. Sin embargo, según la información más reciente, este diseño no constituye competencia real para dispositivos ofrecidos por holandés ASML.
China sigue siendo uno de los mayores clientes de los holandeses
La nueva máquina está aquí. escáner de inmersiónque utiliza una capa de agua al exponer las obleas de silicio. La tecnología DUV se basa en luz con una longitud de onda más larga que los sistemas EUV mucho más avanzados. Esto le permite simplificar el diseño del dispositivo, pero al mismo tiempo limita las posibilidades de producir chips de última generación.
Las máquinas DUV se utilizan con mayor frecuencia. para litografía clase 7 nm y mayoresmientras que el estándar son 3 y 2 nm. Es posible producir sistemas más avanzados, pero requiere exposiciones múltiples. Y múltiples patrones aumenta los costosreduce la eficiencia de la línea de producción y aumenta el riesgo de chips defectuosos.
Es por eso El dispositivo chino no amenazará la posición de ASML en un futuro próximo. La empresa holandesa sigue siendo un monopolio en el mercado de las máquinas DUV más avanzadas, así como el único fabricante de sistemas EUV utilizados por TSMC, Intel, Samsung y otros.
Curiosamente, China sigue siendo uno de los clientes más importantes de ASML. En el primer semestre de 2026, fueron responsables de 16% de los ingresos de la empresaes decir, aproximadamente 2 600 millones de euros. Era el tercer mercado más grande del fabricante holandés, después de Taiwán y Corea del Sur.
Por supuesto, Beijing también está trabajando en sus propias máquinas EUV.en el que se va a involucrar el desarrollo, entre otros: Huawei. Según anuncios anteriores, su producción en serie podría comenzar alrededor de 2030. Sólo lograr este objetivo permitiría a China desafiar realmente la ventaja tecnológica de ASML.
